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   化學(xué)沉銅是PCB線路板孔金屬化過程中，而孔壁鍍層的空洞是印制電路板孔金屬化常見的缺陷之一，因此解決印制電路板鍍層空洞問題是 深圳電路板廠家重點控制的一項內(nèi)容，但由于造成其缺陷的原因多種多樣，只有準確的判斷其缺陷的特征才能有效的找出解決的方案。

   1、PTH造成的孔壁鍍層空洞
 （1）沉銅缸銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度
銅缸的溶液濃度是首先要考慮的。一般來說，銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度是成比例的，當(dāng)其中的任何一種含量低于標準數(shù)值的10%時都會破壞化學(xué)反應(yīng)的平衡，造成化學(xué)銅沉積不良，出現(xiàn)點狀的空洞。所以優(yōu)先考慮調(diào)整銅缸的各藥水參數(shù)。

 （2）槽液的溫度
  槽液的溫度對溶液的活性也存在著重要的影響。在各溶液中一般都會有溫度的要求，其中有些是要嚴格控制的。所以對槽液的溫度也要隨時關(guān)注。

 （3）活化液的控制
   二價錫離子偏低會造成膠體鈀的分解，影響鈀的吸附，但只要對活化液定時的進行添加補充，不會造成大的問題。活化液控制的重點是不能用空氣攪拌，空氣中的氧會氧化二價錫離子，同時也不能有水進入，會造成SnCl2的水解。

 （4）清洗的溫度
  清洗的溫度常常被人忽視，清洗的佳溫度是在20℃以上，若低于15℃就會影響清洗的效果。

 （5）整孔劑的使用溫度、濃度與時間
  藥液的溫度有著較嚴格的要求，過高的溫度會造成整孔劑的分解，使整孔劑的濃度變低，影響整孔的效果，其明顯的特征是在孔內(nèi)的玻璃纖維布處出現(xiàn)點狀空洞。只有藥液的溫度、濃度與時間妥善的配合，才能得到良好的整孔效果，同時又能節(jié)約成本。藥液中不斷累積的銅離子濃度，也必須嚴格控制。

 （6）還原劑的使用溫度、濃度與時間
  還原的作用是去除去鉆污后殘留的錳酸鉀和高錳酸鉀，藥液相關(guān)參數(shù)的失控都會影響其作用，其明顯的特征是在孔內(nèi)的樹脂處出現(xiàn)點狀空洞。

 （7）震蕩器和搖擺
  震蕩器和搖擺的失控會造成環(huán)狀的空洞，這主要是由于孔內(nèi)的氣泡未能排除，以高厚徑比的小孔板為明顯。其明顯的特征是孔內(nèi)的空洞對稱，而孔內(nèi)有銅的部分銅厚正常，圖形電鍍層（二次銅）包裹全板鍍層（一次銅）。

   2、圖形轉(zhuǎn)移造成的孔壁鍍層空洞
 （1） 前處理刷板
  刷板的壓力過大，將全板銅和PTH孔口處的銅層被刷磨掉，使后面的圖形電鍍無法鍍上銅，從而產(chǎn)生孔口環(huán)狀空洞。其明顯的特征是孔口的銅層漸漸變薄，圖形電鍍層包裹全板鍍層。所以要通過做磨痕測試，控制刷板壓力。

 （2）孔口殘膠
  在圖形轉(zhuǎn)移工序?qū)に噮?shù)的控制非常重要，因為前處理烘干不良、貼膜的溫度、壓力的不當(dāng)都會造成孔口的邊緣部位出現(xiàn)殘膠而導(dǎo)致孔口的環(huán)狀空洞。

 （3）前處理微蝕
  前處理的微蝕量要嚴格控制，尤其要控制干膜板的返工次數(shù)。主要是孔中部因電鍍均勻性的問題鍍層厚度偏薄，返工過多會造成全板孔內(nèi)的銅層減薄，而終產(chǎn)生孔內(nèi)中部的環(huán)狀無銅。

   3、圖形電鍍造成的孔壁鍍層空洞
 （1）圖形電鍍微蝕
圖形電鍍的微蝕量也要嚴格的控制，其產(chǎn)生的缺陷與干膜前處理微蝕基本相同。嚴重時孔壁會大面積無銅，板面上的全板層厚度明顯偏薄。所以要定時測微蝕速率，好通過進行DOE實驗優(yōu)化工藝參數(shù)。

 （2）鍍錫（鉛錫）分散性差
  由于溶液性能差或搖擺不足等因素使鍍錫的鍍層厚度不足，在后面的去膜和堿性蝕刻時把孔中部的錫層和銅層蝕掉，產(chǎn)生環(huán)狀空洞。